国产前道光刻装备自主化再进一步：上海微电子SSC800、SSB800模型亮相进博会中国馆

正在国家会展中心（上海）举办的第九届中国国际进口博览会上，上海微电子装备集团（SMEE）自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）在中国馆正式展出。这是SMEE首次以透明剖视模型的形式，向外界完整呈现国产标准化前道光刻装备的内部光路与机电链路布局，标志着我国前道光刻装备自主化从“单点突破”迈入“平台化、规模化验证”的新阶段。

此次展出的模型并非概念展示，其对应的在售机型已在产线端积累了实质性运行数据。据SMEE现场披露的信息，SSC800系列（KrF光源）与SSB800系列（I-line光源）均基于自研双工件台平台，搭载国产自主大NA物镜，关键曝光成像指标对标国际标杆产品。其中，SSC800整体性能已跻身行业第一梯队，成像性能与国际同类领先产品水平相当，套刻精度与生产效率处于紧密追赶状态。从技术定位看，SSC800面向110nm及以上制程，覆盖AI高性能计算所需的高密度存储、微处理器及Micro LED等领域；SSB800则聚焦280nm及以上制程，服务于功率半导体、模拟集成电路与MEMS等成熟制程的大规模生产。

比性能指标更值得关注的是供应链与量产验证数据。SMEE方面确认，该平台关键零部件国产化率已突破90%，整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均实现全链条自主可控。基于这一全栈自主技术底座，相关机型已完成定型并进入规模化量产阶段，多台设备在国内头部逻辑与存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超过千万片，设备有效运行率维持在92%以上。对于半导体设备而言，产线端的长周期运行数据是比任何展台参数都更具说服力的可靠性证据。

SMEE成立于2002年，是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商。在光刻机这一全球半导体产业链中技术壁垒最高、验证周期最长的环节，SMEE此次展示的不仅是一台设备的剖视结构，更是一条从核心部件自主化到整机定型量产、再到量产线规模验证的完整闭环。在进博会这一以进口为主题的展会上，国产前道光刻装备以阶段性成果的姿态出现在中国馆，其信号意义清晰：成熟制程的光刻装备自主供给能力正在从“填补空白”转向“稳定支撑”。