国产光刻胶产品通过半导体工艺量产验证

武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）近日推出的T150 A光刻胶产品，成功通过了严格的半导体工艺量产验证。这一突破标志着中国在高端光刻胶领域取得了重要进展，为半导体产业的自主可控发展注入了强劲动力。

太紫微公司，这家于2024年5月刚刚成立的企业，背后有着华中科技大学武汉光电国家研究中心团队的强力支撑。该团队在电子化学品领域深耕二十余年，致力于关键光刻胶底层技术的研发。此次推出的T150 A光刻胶产品，正是团队多年努力的结晶。

据了解，T150 A光刻胶产品对标国际头部企业的主流KrF光刻胶系列，其在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到了120nm，这一指标与被业内称为“妖胶”的国外同系列产品UV1610相比毫不逊色。更重要的是，T150 A在工艺宽容度、稳定性以及坚膜后烘留膜率等方面均表现出色，对后道刻蚀工艺也极为友好。密集图形经过刻蚀后，下层介质的侧壁垂直度依然能保持优异状态，这一特性使其在半导体制造中更具应用价值。



太紫微公司的企业负责人朱明强教授，同时也是英国皇家化学会会员和华中科技大学的二级教授，他表示：“从原材料开发起步，最终获得自主知识产权的配方技术，这仅仅是一个开端。团队深知，要想真正在国内半导体光刻制造领域开创崭新局面，不能仅仅满足于这一项成果。”因此，太紫微公司计划继续发力，发展一系列应用于不同场景下的KrF与ArF光刻胶，以满足半导体产业日益多样化的需求。

此次T150 A光刻胶产品通过量产验证，不仅填补了国内在高端光刻胶领域的部分空白，还打破了国外在该领域的部分技术垄断。这对于提升我国半导体产业的自主可控能力具有重要意义。随着国内半导体产业的快速发展，对高性能光刻胶的需求日益迫切。T150 A的成功量产，将为国内半导体企业提供更加可靠、稳定的光刻胶选择，有助于推动我国半导体产业向更高水平迈进。