ASML两台High NA EUV光刻机成功安装于英特尔

近日，ASML新任CEO傅恪礼（Christophe Fouquet）在SPIE大会上宣布了一个令人振奋的消息：两台High NA EUV光刻机（单台设备售价约为3.5亿美元）已经在英特尔成功安装完成。

High NA EUV光刻机作为目前全球最先进、最昂贵的光刻设备，其安装完成代表着更高分辨率的光刻能力，能够满足停滞不前的摩尔定律所带来的挑战。傅恪礼在演讲中表示，High NA EUV光刻机不太可能像最初的EUV光刻机那样出现延迟，因为这款设备更像是EUV光刻机的“升级款”，而不是一个全新的产品。这一预测无疑为业界注入了更多信心。

英特尔光刻总监马克·菲利普斯（Mark Phillips）在大会上透露，他们在波特兰工厂已经完成了两台High NA光刻系统的安装。他还强调，由于已经有了首台安装的经验，第二台系统的安装效率比首台更快，这表明公司在相关技术方面的经验积累得到了显著回报。此外，菲利普斯还透露，High NA系统所需的所有基础设施已经到位并开始运行，相关光刻掩模检测也已按计划开始。

据了解，High NA EUV光刻机的成功安装对英特尔来说意义重大。英特尔计划在2025年年底开始使用这一系统进行生产，目标插入点是Intel 14A工艺（预计2026~2027年量产）。这将有助于英特尔在半导体市场上保持领先地位，并进一步提升其在高端芯片制造方面的竞争力。

值得一提的是，ASML在与客户合作方面也展现了极高的灵活性和效率。傅恪礼在演讲中提到了组装扫描仪子组件的新方法，即直接在客户工厂安装，无需经历拆卸及再组装的过程。这将大大节省ASML与客户之间的时间和成本，有助于加快High NA EUV光刻机的推出和交付。

然而，并非所有客户都能享受到ASML的优惠待遇。据报道，台积电在引入High NA EUV光刻机时获得了较低的报价，这主要是因为台积电是ASML的超级VIP客户，拥有绝对的市场占有率优势和话语权。ASML为了全力协助台积电进机、调校与技术支援等，加速上线时间点，给出了很大让步。