东方晶源国产EOS实现在高端量测检测领域的应用

在我国集成电路产业蓬勃发展的背景下，东方晶源科技股份有限公司（以下简称“东方晶源”）今日宣布，其自主研发的新一代电子光学系统（Electron Optical System，简称EOS）已成功搭载到旗下多款高端电子束量测检测设备中，实现了国产EOS在高端量测检测领域的突破性应用。这一里程碑式的成就，不仅标志着东方晶源在电子束量测检测领域的技术实力达到了国际领先水平，更为我国集成电路产业的发展和进步奠定了坚实基础。

作为电子束量测检测领域的先行者和领跑者，东方晶源始终坚持自主研发，不断深化研发投入，加速技术创新步伐。此次推出的新一代EOS，是东方晶源技术团队多年努力的结晶，其成功搭载到电子束缺陷复检设备（DR-SEM）、关键尺寸量测设备（CD-SEM）和电子束缺陷检测设备（EBI）中，标志着国产EOS在高端量测检测领域的应用迈出了坚实的一步。

DR-SEM是一款基于超高分辨率电子束成像技术的设备，主要用于对芯片制造过程中的缺陷进行复检分析，包括形貌分析和成分分析等。东方晶源新一代DR-SEM EOS采用了适配自研的多通道高速探测器，支持多信号类型分析检测，兼容EDX成分分析功能，能够覆盖广泛的缺陷复检应用场景。同时，搭配高精度定位技术，新一代DR-SEM EOS的检测精度和速度均达到了业界主流水准，为芯片制造过程中的质量控制提供了有力保障。

CD-SEM作为产线量测的基准设备，对EOS的核心技术需求在于高分辨、高产能和高稳定性。东方晶源新一代CD-SEM EOS通过采用球色差优化的物镜、像差补偿技术和自动校正技术等新方案，实现了高成像分辨率和高量测精度，达到了业界一流水平。同时，自研探测器针对频响和信噪比进行了优化，支持快速图像采集，结合高速AFC技术，可以在不损失精度的情况下大幅提升量测产能。这一技术方案确保了CD-SEM在产线量测中的稳定性和一致性，进一步提升了生产效率。

针对国内领先的逻辑与存储客户产线检测需求，EBI EOS在保证检测精度的前提下，重点提升了检测速度。东方晶源最新研发的EBI EOS通过四大技术手段在检测精度和速度上进行了显著的优化与提升，满足了客户对高效、精准检测的需求。

随着半导体工艺水平的飞速发展，电子束在线量测检测的重要性日益凸显。东方晶源在高速成像和多电子束技术方面取得了重要突破，实现了相关技术的原理验证，为提升设备产能和满足市场需求提供了有力支持。