武汉光谷实验室成功研发高性能量子点光刻胶，助力Micro-LED全彩显示技术飞跃

近日，武汉光谷实验室传来振奋人心的消息，该实验室与华中科技大学集成电路学院、光电子器件与三维集成团队以及广纳珈源（广州）科技有限公司紧密合作，成功研发出高性能量子点光刻胶（QD-PR）。这一创新成果不仅标志着我国在Micro-LED全彩显示技术领域取得了重大突破，更为AR、VR等前沿领域的发展注入了强劲动力。

Micro-LED显示技术以其高分辨率、高亮度、高对比度、宽色域等显著优势，近年来备受业界关注。然而，实现全彩化显示一直是该技术面临的关键挑战。传统RGB三色micro-LED全彩技术存在巨量转移次数多、成本高昂、驱动控制电路复杂等问题，且随着micro-LED尺寸的减小，红色LED的发光效率急剧下降，进一步加剧了全彩化显示的难度。

针对这些难题，研究团队独辟蹊径，采用单色蓝光micro-LED激发绿色和红色荧光材料的方法，以实现全彩化显示。在此过程中，胶体量子点因其发光半峰宽窄、颜色可调、效率高、粒径小等优异性能，成为配合蓝光micro-LED的理想荧光材料。然而，当前量子点光刻技术仍存在发光效率低、像素精度不够高、蓝光转换效率低、稳定性差等问题。

为此，武汉光谷实验室联合科研团队经过不懈努力，成功研发出高性能量子点光刻胶（QD-PR）。该光刻胶的蓝光转换效率达到了行业领先的44.6%（绿色）和45.0%（红色），光刻精度更是达到了1微米，各项性能指标均处于行业前列。这一突破性成果不仅解决了当前量子点光刻技术中的诸多难题，还为实现高精度的量子点像素化提供了有力支持。

基于这一高性能的量子点光刻胶，研究团队成功实现了高精度的量子点像素，并展示了其在显示应用方面的巨大潜力。这些量子点色转换像素不仅表现出优异的稳定性，在空气中75℃加热120小时后仍能保留原始发光性能的92.5%（红色）和93.4%（绿色），还通过红绿量子点套刻，配合蓝色面光源，获得了高精度的基于量子点色转换像素的静态图案，进一步验证了该量子点光刻胶的显示应用潜力。