IBM、美光等将与纽约共建100亿美元芯片园区，引进EUV光刻机

来源：全球半导体观察

12月11日，美国纽约州州长凯西·霍楚尔宣布，将联合IBM、美光等公司投资100亿美元，在纽约州立大学奥尔巴尼分校建设芯片产业园区，并且还将利用州政府的资金购买ASML的High-NA（高数值孔径）EUV光刻机。

据悉，负责监督奥尔巴尼纳米科技园的非营利性机构“纽约制造”（NY Creates）将协调该研究设施的建设。霍楚尔办公室称，一旦设备安装完毕，该项目及其合作伙伴将在那里开始下一代芯片的制造工作。

这一100亿美元的芯片园区项目，参与者包括IBM、美光、应用材料、东京电子等。

根据美国2022年确定的《芯片法案》，这一项目将有助于纽约争取被确定为美国的芯片研究中心。《芯片法案》此前宣布，将为美国国家半导体技术中心（NSTC）拨款110亿美元，以促进芯片研发。

纽约州将投资10亿美元购买ASML的High-NA EUV光刻机，预计2025年可以投产；此外还将建造一座占地5万平方英尺的芯片制造大楼，建设工程将耗时两年左右。

据悉，纽约州是多家大型芯片工厂的所在地，其中包括格芯、安森美、Wolfspeed等。美光公司此前也计划向锡拉丘兹附近的一家大型工厂投资高达1000亿美元，希望通过《芯片法案》获得资金。