场效应管的工作原理

2019年02月23日 09:58    发布者:xunavc
  场效应管的工作原理:
  场效应管工作原理用一句话说,就是"漏极-源极间流经沟道的ID,用以栅极与沟道间的pn结形成的反偏的栅极电压控制ID".更正确地说,ID流经通路的宽度,即沟道截面积,它是由pn结反偏的变化,产生耗尽层扩展变化控制的缘故。在VGS=0的非饱和区域,表示的过渡层的扩展因为不很大,根据漏极-源极间所加VDS的电场,源极区域的某些电子被漏极拉去,即从漏极向源极有电流ID流动。从门极向漏极扩展的过度层将沟道的一部分构成堵塞型,ID饱和。将这种状态称为夹断。这意味着过渡层将沟道的一部分阻挡,并不是电流被切断。
  在过渡层由于没有电子、空穴的自由移动,在理想状态下几乎具有绝缘特性,通常电流也难流动。但是此时漏极-源极间的电场,实际上是两个过渡层接触漏极与门极下部附近,由于漂移电场拉去的高速电子通过过渡层。因漂移电场的强度几乎不变产生ID的饱和现象。其次,VGS向负的方向变化,让VGS=VGS(off),此时过渡层大致成为覆盖全区域的状态。而且VDS的电场大部分加到过渡层上,将电子拉向漂移方向的电场,只有靠近源极的很短部分,这更使电流不能流通。
  AO4800 http://www.dzsc.com/ic-detail/9_3755.html场效应管详细规格
  FET型:2 个 N 沟道(双)
  Id时的Vgs333th444111最大222:1.5V @ 250 A封装__外壳:8-SOIC(0.154",3.90mm 宽)类别:FET - 阵列FET特点:逻辑电平门
  闸电荷333Qg4440a0Vgs:12nC @ 4.5V
  供应商设备封装:8-SOIC
  描述:MOSFET DUAL N-CH 30V 6.9A 8-SOIC
  漏极至源极电压333Vdss444:30V
  输入电容333Ciss4440a0Vds:1100pF @ 15V
  包装:带卷 (TR)
  电流_连续漏极333Id4440a025000C:6.9A
  功率_最大:1.9W
  制造商:Alpha & Omega Semiconductor Inc
  开态Rds111最大2220a0IdwwwwVgs0a025000C:27 毫欧 @ 6.9A,10V安装类型:表面贴装