美国放宽刻蚀设备对华出口 65nm放行

2010年10月09日 18:46 发布者：嵌入式公社

在SEMI及会员公司的共同努力下，经过9个月的等待，美国联邦政府正式实施放宽刻蚀设备的出口条件，原来180nm的技术审核指标被正式放宽到了65nm。

来源：SEMI

网友评论

yyfsyyy 2010年10月13日
是个好消息

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