NI推出PXI矢量网络分析仪，帮助半导体和移动设备制造商降低测试成本

•    NI矢量网络分析仪（VNA）凭借其快速自动化测量、功能强大的仪器结构和经简化的测试系统开发过程，可降低测试成本。
•    新的NI PXI Express模块集成了高级矢量网络分析仪的测量功能，形成基于PXI的测试系统，其中包括了高精度直流、高速模拟和数字测量等应用

美国国家仪器公司（National Instruments, 简称 NI）近日发布了NI NI PXIe-5632 VNA，它经进一步优化，可帮助工程师满足日益复杂的射频测试要求，而其成本、尺寸和使用所需时间仅是传统堆叠式解决方案的极小一部分。 新的PXIe VNA基于创新型的双源架构，频率范围为300 kHz至8.5 GHz，拥有独立调整的源代码和源接入循环，可适用于众多不同的测量应用



“NI在射频和微波仪器上持续大力投入，将PXI的应用领域扩大至高端应用。”NI射频研究和开发副总裁Jin Bains表示， “NI PXIe-5632矢量网络分析仪功能丰富，可显着降低网络测量成本，尤其是针对那些需要高度精确、快速和小封装测量的大批量自动化测试的应用。”

产品特征
•    双端口，3槽PXI Express矢量网络分析仪，频率范围为300 kHz至8.5 GHz 。
•    功率范围较宽，为-30dBm到+15 dBm，调节步长为0.01dB，用于测量有源设备的压缩和S-参数。  
•    带有源接入循环的双源架构，可实现脉冲S参数测量和扩展源功率范围。
•    频偏功能使用独立调整的源代码，实现对频率转换器件和热S-参数的测量。
•    通过NI LabVIEW、ANSI C和.NET等行业领先的编程接口，可简化编程并加快测试开发速度，同时保证射频测量质量。
欲知更多，请访问http://www.ni.com/vna/zhs/。